Город, который создан на камне: выставка литографий Ольги Васильевой

В галерее «Мольберт» открылась выставка «Васильевский остров в литографиях Ольги Васильевой». Экспозиция из 11 листов стала результатом работы художницы и печатника Алексея Баранова, она будет интересна как влюбленным в Петербург, так и поклонникам этого вида графики.

Литография — это вид печатной графики, при котором краска со специально обработанного камня под давлением переносится на бумагу. Несмотря на то, что многие современные художники работают в технике литографии, сегодня далеко не все знают о специфике ее создания и тем более об авторах, которые ей занимаются. 

Выставка «Васильевский остров в литографиях Ольги Васильевой», открывшаяся в эти дни в галерее «Мольберт», уникальна тем, что даёт представление как о литографической технике, так и о мастерстве художника. В этих работах Васильевский остров приобретает новые формы и краски и позволяет увидеть совсем другими давно привычные и полюбившиеся виды.

Художнице удаётся поймать настроение, зафиксировать момент времени через тени, игру света, точки и линии.

Над проектом о Васильевском острове вместе с Ольгой Васильевой работал мастер Алексей Баранов. В случае с литографией работа художника и печатника превращается в сотворчество, так как сначала автор делает эскизы с натуры, потом переносит их на специально обработанный камень с помощью туши и литографического карандаша, и уже с такого камня, который где-то впитывает краску, а где-то отталкивает, печатник делает оттиск на бумаге. 

Мерцание, штрихи, вспышки света — все эти удивительные свойства литографий раскрываются в зависимости от того, как обработана поверхность, какие выбраны бумага и тушь. В истории были литографы, которые сами печатали свои работы, но всё же обычно представления о красоте, создающейся в камне, должны совпасть у художника и у печатника, работающего вместе с ним. 

Ольга Васильева родилась в 1978 году в Самаре. С 1995 по 2000 годы училась в Самарском художественном училище им. К.С. Петрова-Водкина на живописно-педагогическом отделении. В 2000 году поступила на художественный факультет Всероссийского государственного института кинематографии им. С.А. Герасимова, где получила специальность «Художник кино и телевидения». Её биография отражает стремление художницы к постоянному творческому поиску, освоение новых стилей. И обращение к литографии — результат этой внутренней потребности в переменах. 

«У многих моих ровесников к сорока наступает кризис среднего возраста, и они меняют профессию. Моя уникальна тем, что я могу, оставаясь в своей, находить новые возможности для развития. При том что в Союзе художников я состою в секции живописи, это моя первая литографическая выставка. Если говорить о специфике, нужно понимать, как делают литографию. Но в основном есть карандаш, есть я — это привычные действия», — говорит Ольга Васильева.

Выставка состоялась благодаря известному архитектору Евгению Герасимову и его супруге Юлии, которые поддерживают талантливых петербургских художников. И в этот раз они стали проводниками, позволившими одним людям рассказать о том, каким может быть город, а другим — увидеть это и сохранить память о создателях.

«Многие сегодня не знакомы с литографией, не понимают, чем отличается один вид печатной графики от другого. А благодаря выставке мы видим интерес к процессу, к результату, к личности художника. Для меня работы Ольги Васильевой — продолжение традиций петербургской литографии, например работ Остроумовой-Лебедевой, Добужинского и многих других уникальных авторов. И совместное с издательством «Пропилеи» издание папки с работами Ольги, которую можно купить в галерее, — ещё одна возможность для каждого сохранить впечатление о выставке. Папка может стать библиографической редкостью», — говорит Евгений Герасимов.

«Именно благодаря поддержке Юлии и Евгения Герасимовых удалось реализовать наш с Ольгой проект в таком масштабе. Это огромная работа для художника. Здорово, когда в мастерской появляется такой работоспособный человек, создающий особенную атмосферу одним только своим присутствием», — рассказывает Алексей Баранов.

На выставке можно увидеть не только литографии, но и фотографии процесса их создания, выполненные Еленой Игнатьевой. Также частью экспозиции стал фильм Анны Амплеевой, показывающий, как создавались эстампы. А кроме того экспонатами выставки являются два литографских камня из печатной мастерской.


Дополнительным штрихом стало включение в экспозицию других этюдов и эскизов Ольги Васильевой, сделанных на пленэре. Это настоящая находка для тех, кто интересуется современным искусством, основанным на традиционных техниках, когда художник работает непосредственно в моменте, в тех погодных условиях, которые предлагает ему город.

«Мне хотелось показать процесс создания литографии от нанесения рисунка на камень до его обработки и получения оттиска. Собиралась прийти всего на час, но осталась надолго — так увлекла меня работа Ольги и Алексея. И выбор чёрно-белой гаммы для фотографий стал неслучайным: хотелось выдержать настроение, созвучное самим работам», — делится Елена Игнатьева. 

«В случае с такой техникой далеко не всегда получается объяснить на словах, что такое литография, чем она отличается от обычной графики. Фотографии из мастерской дают представление о том, насколько интересный и сложный вид графики мы представляем. Кроме того, для нас эта выставка — подарок жителями к 27 мая, Дню города», — резюмирует Елена Мочалина, куратор выставки.

Литография даёт возможность многократного копирования, а значит предлагает больше возможностей для распространения и коллекционирования. Это особенно важно для ценителей искусства и любителей городских видов. На выставке можно приобрести папку с 11 эстампами, выпущенными тиражом в 100 экземпляров, с автографом автора.


Выставка «Васильевский остров в литографиях Ольги Васильевой»:


с 19 мая по 16 июня,
галерея «Мольберт», Большая Конюшенная ул., 11
  • Среда — воскресенье, с 12:00 до 20:00.
  • Понедельник и вторник — выходные дни.
Вход бесплатный.














Использование фемтосекундных лазеров для двухфотонной фотолитографии в нано- и микрофлюидике

В своём недавно представленном методе масштабируемого производства наножидкостей исследователи из Кембриджского университета использовали фемтосекундный лазер

CFiber 780 компании Menlo Systems для двухфотонной нанолитографии.

Существуют устройства типа «лаборатория на чипе» (LOC – англ. «Lab-on-a-chip»), являющиеся небольшими конструкциями, имеющими миниатюрные лабораторные функции. Они обычно сложны в изготовлении, но облегчают выполнение широкого круга задач, которые необходимо решать на небольших масштабах. Подобно электронным интегральным схемам, которые работают с МОП-транзисторами, LOC используют наножидкости для определения характеристик жидкостных систем и управления ими по принципу микросхемы. Из-за чрезвычайно малого размера канала в диапазоне менее 100 нм поведение содержащихся в нём жидкостей значительно отличается от их поведения в микро- или макромасштабе. В частности, ограничения позволяют наблюдать новые физические явления, возникающие в пределах или ниже так называемой длины Дебая, расстояния, на которое распространяется действие электрического поля отдельного заряда в квазинейтральной среде. Таким образом, наножидкости открывают новые возможности для анализа и обработки в биотехнологии, медицине, а также в оптимизации электростанций с обратным электродиализом для эффективного производства возобновляемой энергии.

Группа исследователей из Кембриджского университета в Великобритании, представила простой и экономичный метод комбинированного производства наножидкостей и микрожидкостей, совместимый с существующими методами. Они использовали фемтосекундный лазер CFiber 780 компании Menlo Systems для двухфотонной прямой лазерной записи (DLW – англ. «direct laser writing») наноканалов в микроструктуры, которые были предварительно получены с помощью УФ-фотолитографии.

Детально структура наножидкостного устройства, изготовленного путем комбинирования литографии УФ-маски и двухфотонной записи с последующей мягкой литографией, отражена на рис. 1.


Рис. 1. Коррелированный анализ сканирующей электронной и атомно-силовой микроскопиями двухфотонных наноструктур.

а. Сканирующая электронная микроскопия, микрофотография наножидкостного отпечатка полидиметилсилоксана (ПДМС), полученного комбинацией литографии с УФ-маской и двухфотонной записи. 

b. Три наножидкостных области с наноканалами длиной 75 микрон, соединяющие два микроканала.

c. При большем увеличении видны наноканалы шириной 420 нм, отпечатанные в ПДМС.

Анализ процессов в биофизических системах, происходящих в молекулярном масштабе, требует высочайшей точности и возможности управления окружающей средой процесса. Сегодня ученые могут наблюдать процессы, происходящие внутри отдельных клеток, и изучать единичные события нуклеации, управляющие сворачиванием белков. Они сочетают аналитические методы, доступные в экспериментальной физике и химии, с использованием микро- и наножидкостных устройств для удержания исследуемого образца. Поскольку частицы, заключенные в контейнеры нанометрового размера, больше подвержены влиянию окружающих электростатических полей от стенок канала, наножидкости являются инструментом для изучения влияния размера канала на механизмы селективного переноса частиц. Таким образом, помимо функции простого удержания, разделения или сортировки различных типов химических или биологических образцов, наноканалы также используются для создания мембран, которые позволяют обмениваться заряженными частицами по мере необходимости при обратном электродиализе – методе извлечения электрической энергии из градиента солёности при смешивании морской и речной воды, так называемой «голубой энергии».

Производство наножидкостных устройств в настоящее время включает в себя дорогие и трудоёмкие методы, такие как электронно-лучевая литография или травление сфокусированным ионным пучком, которые требуют условий чистой комнаты. Это существенно ограничивает доступность наножидкостных устройств узким кругом приложений. Более того, эти методы пытаются обеспечить связь между наноструктурами и более крупными структурами для практического применения за пределами научных лабораторий. Группа исследователей из Кембриджа описывает новый метод быстрого изготовления, который не только представляет собой жизнеспособный способ связать производственные линии микро- и нанофлюидики, но также может связывать нанофлюидные устройства с макроскопическим миром. Взаимодействие с окружающей средой переводит наножидкости из статуса фундаментальных исследований в реальные приложения.

Британские исследователи объединяют традиционную УФ-фотолитографию для микроструктурирования и двухфотонную DLW для наноструктурирования устройств в одном гибридном производственном процессе. Подложка представляет собой фоторезист, нанесённый методом центрифугирования на кремниевую пластину. На первом этапе микрофлюидные срезы наносятся на фоторезист путем УФ-облучения через подходящую маску. Далее пластина запекается с целью полимеризации участков, облученных УФ-излучением. Это вызывает изменения показателя преломления между областями УФ-облучения и областями с маской, определяя интересующие места для нанопереходов. На третьем этапе нанопереходы непосредственно записываются в фоторезист с помощью двухфотонной литографии, процесса, при котором фоторезист полимеризуется с нанометровым разрешением. Наконец, неполимеризованный фоторезист удаляется проявкой в растворителе, оставляя узорчатые структуры на поверхности кремния. Затем очищенная и высушенная пластина служит эталонной формой для мягкой литографии. Подобно штампу, он передает микро- и наноэлементы эластомерному материалу. Более подробно данный процесс описан на рис. 2.


Рис. 2. УФ-литография.

а. УФ-литография на основе маски используется для проецирования микрожидкостного чипа произвольной конструкции на кремниевую пластину с покрытием SU-8.

b. Наножидкостные каналы добавляются посредством двухфотонной литографии в областях, представляющих интерес. Диаграмма Яблонского иллюстрирует, что два пространственно скоррелированных ИК-фотона могут взаимодействовать с фотоинициатором как один УФ-фотон с половиной длины волны, если они поглощаются молекулой в течение времени жизни виртуального состояния, возбужденного одним ИК-фотоном.

c. Пластина проявляется и получается микрожидкостная мастер-пластина со встроенными наноканалами

d. Пластина покрывается ПДМС-слоем для мягкой литографии.

e. После отверждения ПДМС-слоя устройства снимают с поверхности и добавляют впускные отверстия.

f. Окончательный ПДМС-чип прикрепляют к покровному стеклу и заполняют, например, флуоресцентным красителем.

По сравнению с УФ-фотолитографией, которая идеально подходит для создания рисунка на больших площадях, DLW не нуждается в маске и может создавать произвольные формы. Полученные в результате элементы не зависят от толщины покрытия фоторезиста и могут располагаться вблизи или на поверхности подложки. Однако, как УФ-фотолитография, так и DLW на длине волны УФ-лазера представляют собой линейные процессы, и минимально достижимый размер элемента ограничен дифракционным пределом диапазоном в микрометры. Напротив, метод двухфотонного DLW, применяемый группой, представляет собой нелинейный процесс в двух аспектах: во-первых, двухфотонное поглощение происходит только в области высокой интенсивности лазера, то есть там, где квадрат интенсивность превышает порог полимеризации. Этот объём меньше, чем ограниченное дифракцией фокусное пятно лазера. Во-вторых, нелинейный отклик фоторезиста аналогичным образом дополнительно снижает объём полимеризации. Используя фемтосекундный волоконный лазер Menlo Systems C-Fiber 780 на длине волны 780 нм, Кембриджская группа продемонстрировала двухфотонную прямую лазерную запись каналов с поперечной шириной до 230 нм и высотой менее 50 нм. Посредством калибровочного анализа группа ранее определила оптимальные параметры мощности лазера, скорости сканирования и смещения фокального пятна от поверхности пластины и, наконец, охарактеризовала полученные структуры с помощью сканирующей электронной микроскопии (SEM – англ. «scanning electron microscopy») и атомно-силовой микроскопии (AFM – англ. «atomic force microscopy»).

Новый комбинированный метод значительно быстрее, чем просто DLW, и ни один из этапов обработки не требует условий чистого помещения. Более того, он позволяет реализовать наноразмерные функции в выбранных областях, представляющих интерес, даже в существующих микрофлюидных устройствах. Этот быстрый и рентабельный метод производства наножидкостей доступен и практичен для биологических лабораторий, а также облегчает их производство в более крупных масштабах. Исследователи из Кембриджа продемонстрировали функциональность своих наноустройств, заполнив их красителем родамином и локализовав отдельные молекулы с помощью методов микроскопии сверхвысокого разрешения для разрешения каналов субволнового размера.

Оригинальная публикация: O. Vanderpoorten et al.: Scalable integration of nano-, and microfluidics with hybrid two-photon lithography; Microsystems & Nanoengineering Vol. 5, No. 40 (2019)

DOI: https://doi.org/10.1038/s41378-019-0080-3

АО «ЛЛС» является официальным дистрибьютором и представляет весь спектр продукции Menlo Systems GmbH на территории РФ и стран СНГ и предлагает наиболее выгодные условия поставки продукции, полную техническую поддержку, а также поставку образцов. Получить дополнительную информацию Вы можете, обратившись в нашу компанию.

Литографии в “Волшебном холме” Евгении Лоцмановой — 7 ответов

Взято из жж

14 ноября в Библио-глобусе в гостях были художники Георгий Юдин, Борис Диодоров, Юлия Леонычева и Евгения Лоцманова. Разговор шел, в частности, о литографиях, о том, что это такое и о том, как литография живет в книгах. Также были представлены и оригинальные работы, в том числе и литографии к сказке Андерсена “Волшебный холм” Евгении Лоцмановой, которые у нас только что вышли отдельной книгой.
Ну, и нам задали вопросы, почему показанные работы были не совсем похожие на напечатанные в книге.
Отвечаем.

Работы, использованные в этой книге, сделаны в технике литографии, то есть отпечатка на бумаге с формы (камня). Отпечаток, как вы понимаете, не один, не два. Да, каждый оттиск уникален, но в то же время такая техника дает возможность каждый раз попробовать чуть по-иному, разный нажим, использовать разные цвета, экспериментировать с разными оттенками. Каждый полученный оттиск, принятый и подписанный художником, в этом случае может считаться оригинальной работой.

Евгения Лоцманова работала над книгой два года. Вы представляете сколько вариантов было сделано за эти два года?

Но, естественно, что для книги отбиралось что-то одно, что-то, что художник принял как цельную единую книгу. Именно этот вариант сама Евгения Лоцманова и принесла в редакцию для будущей книги. Именно эти варианты работ и стали книгой.

Несмотря на то, что саму книгу делали наши коллеги, оригиналы работ сканировались в Москве, я их держала в руках, и они полностью соответствовали вот этим сканам:








Если художница на продажу предлагает литографические оттиски с более яркими красками, это ее право, но эти варианты она сама не стала предлагать для книги, то есть это не те иллюстрации, которые послужили оригиналами для книги.

Открою маленький секрет: напечатать ярче сегодня проще, чем получить на выходе из типографии мягкую, прозрачную, “тихую” акварель. Именно в этом была главная “засада” при печати этих работ, а уж никак не сделать по-ярче. Эти работы, как волшебный сон, как сновидение, как сказочная фантазия, они поэтому такие нежные, прозрачные, легкие. И это, как мне кажется, прекрасно отразилось в книге.

Произошла ошибка при настройке пользовательского файла cookie

Этот сайт использует файлы cookie для повышения производительности. Если ваш браузер не принимает файлы cookie, вы не можете просматривать этот сайт.


Настройка браузера на прием файлов cookie

Существует множество причин, по которым файл cookie не может быть установлен правильно. Ниже приведены наиболее распространенные причины:

  • В вашем браузере отключены файлы cookie. Вам необходимо сбросить настройки браузера, чтобы принять файлы cookie, или спросить вас, хотите ли вы принимать файлы cookie.
  • Ваш браузер спрашивает, хотите ли вы принимать файлы cookie, и вы отказались. Чтобы принять файлы cookie с этого сайта, нажмите кнопку «Назад» и примите файл cookie.
  • Ваш браузер не поддерживает файлы cookie. Попробуйте другой браузер, если вы подозреваете это.
  • Дата на вашем компьютере в прошлом. Если часы вашего компьютера показывают дату до 1 января 1970 г., браузер автоматически забудет файл cookie. Чтобы это исправить, установите правильное время и дату на своем компьютере.
  • Вы установили приложение, которое отслеживает или блокирует установку файлов cookie. Вы должны отключить приложение при входе в систему или проконсультироваться с системным администратором.

Почему этому сайту требуются файлы cookie?

Этот сайт использует файлы cookie для повышения производительности, запоминая, что вы вошли в систему, когда переходите со страницы на страницу. Предоставить доступ без файлов cookie потребует от сайта создания нового сеанса для каждой посещаемой вами страницы, что замедляет работу системы до неприемлемого уровня.


Что сохраняется в файле cookie?

Этот сайт не хранит ничего, кроме автоматически сгенерированного идентификатора сеанса в файле cookie; никакая другая информация не фиксируется.

Как правило, в файле cookie может храниться только та информация, которую вы предоставляете, или выбор, который вы делаете при посещении веб-сайта. Например, сайт не может определить ваше имя электронной почты, если вы не решите ввести его. Разрешение веб-сайту создавать файлы cookie не дает этому или любому другому сайту доступ к остальной части вашего компьютера, и только сайт, создавший файл cookie, может его прочитать.

Произошла ошибка при настройке пользовательского файла cookie

Этот сайт использует файлы cookie для повышения производительности. Если ваш браузер не принимает файлы cookie, вы не можете просматривать этот сайт.


Настройка браузера на прием файлов cookie

Существует множество причин, по которым файл cookie не может быть установлен правильно. Ниже приведены наиболее распространенные причины:

  • В вашем браузере отключены файлы cookie. Вам необходимо сбросить настройки браузера, чтобы принять файлы cookie, или спросить вас, хотите ли вы принимать файлы cookie.
  • Ваш браузер спрашивает, хотите ли вы принимать файлы cookie, и вы отказались. Чтобы принять файлы cookie с этого сайта, нажмите кнопку «Назад» и примите файл cookie.
  • Ваш браузер не поддерживает файлы cookie. Попробуйте другой браузер, если вы подозреваете это.
  • Дата на вашем компьютере в прошлом. Если часы вашего компьютера показывают дату до 1 января 1970 г., браузер автоматически забудет файл cookie. Чтобы это исправить, установите правильное время и дату на своем компьютере.
  • Вы установили приложение, которое отслеживает или блокирует установку файлов cookie. Вы должны отключить приложение при входе в систему или проконсультироваться с системным администратором.

Почему этому сайту требуются файлы cookie?

Этот сайт использует файлы cookie для повышения производительности, запоминая, что вы вошли в систему, когда переходите со страницы на страницу. Предоставить доступ без файлов cookie потребует от сайта создания нового сеанса для каждой посещаемой вами страницы, что замедляет работу системы до неприемлемого уровня.


Что сохраняется в файле cookie?

Этот сайт не хранит ничего, кроме автоматически сгенерированного идентификатора сеанса в файле cookie; никакая другая информация не фиксируется.

Как правило, в файле cookie может храниться только та информация, которую вы предоставляете, или выбор, который вы делаете при посещении веб-сайта. Например, сайт не может определить ваше имя электронной почты, если вы не решите ввести его. Разрешение веб-сайту создавать файлы cookie не дает этому или любому другому сайту доступ к остальной части вашего компьютера, и только сайт, создавший файл cookie, может его прочитать.

Произошла ошибка при настройке пользовательского файла cookie

Этот сайт использует файлы cookie для повышения производительности. Если ваш браузер не принимает файлы cookie, вы не можете просматривать этот сайт.


Настройка браузера на прием файлов cookie

Существует множество причин, по которым файл cookie не может быть установлен правильно. Ниже приведены наиболее распространенные причины:

  • В вашем браузере отключены файлы cookie. Вам необходимо сбросить настройки браузера, чтобы принять файлы cookie, или спросить вас, хотите ли вы принимать файлы cookie.
  • Ваш браузер спрашивает, хотите ли вы принимать файлы cookie, и вы отказались. Чтобы принять файлы cookie с этого сайта, нажмите кнопку «Назад» и примите файл cookie.
  • Ваш браузер не поддерживает файлы cookie. Попробуйте другой браузер, если вы подозреваете это.
  • Дата на вашем компьютере в прошлом. Если часы вашего компьютера показывают дату до 1 января 1970 г., браузер автоматически забудет файл cookie. Чтобы это исправить, установите правильное время и дату на своем компьютере.
  • Вы установили приложение, которое отслеживает или блокирует установку файлов cookie. Вы должны отключить приложение при входе в систему или проконсультироваться с системным администратором.

Почему этому сайту требуются файлы cookie?

Этот сайт использует файлы cookie для повышения производительности, запоминая, что вы вошли в систему, когда переходите со страницы на страницу. Предоставить доступ без файлов cookie потребует от сайта создания нового сеанса для каждой посещаемой вами страницы, что замедляет работу системы до неприемлемого уровня.


Что сохраняется в файле cookie?

Этот сайт не хранит ничего, кроме автоматически сгенерированного идентификатора сеанса в файле cookie; никакая другая информация не фиксируется.

Как правило, в файле cookie может храниться только та информация, которую вы предоставляете, или выбор, который вы делаете при посещении веб-сайта. Например, сайт не может определить ваше имя электронной почты, если вы не решите ввести его. Разрешение веб-сайту создавать файлы cookie не дает этому или любому другому сайту доступ к остальной части вашего компьютера, и только сайт, создавший файл cookie, может его прочитать.

Произошла ошибка при настройке пользовательского файла cookie

Этот сайт использует файлы cookie для повышения производительности. Если ваш браузер не принимает файлы cookie, вы не можете просматривать этот сайт.


Настройка браузера на прием файлов cookie

Существует множество причин, по которым файл cookie не может быть установлен правильно. Ниже приведены наиболее распространенные причины:

  • В вашем браузере отключены файлы cookie. Вам необходимо сбросить настройки браузера, чтобы принять файлы cookie, или спросить вас, хотите ли вы принимать файлы cookie.
  • Ваш браузер спрашивает, хотите ли вы принимать файлы cookie, и вы отказались. Чтобы принять файлы cookie с этого сайта, нажмите кнопку «Назад» и примите файл cookie.
  • Ваш браузер не поддерживает файлы cookie. Попробуйте другой браузер, если вы подозреваете это.
  • Дата на вашем компьютере в прошлом. Если часы вашего компьютера показывают дату до 1 января 1970 г., браузер автоматически забудет файл cookie. Чтобы это исправить, установите правильное время и дату на своем компьютере.
  • Вы установили приложение, которое отслеживает или блокирует установку файлов cookie. Вы должны отключить приложение при входе в систему или проконсультироваться с системным администратором.

Почему этому сайту требуются файлы cookie?

Этот сайт использует файлы cookie для повышения производительности, запоминая, что вы вошли в систему, когда переходите со страницы на страницу. Предоставить доступ без файлов cookie потребует от сайта создания нового сеанса для каждой посещаемой вами страницы, что замедляет работу системы до неприемлемого уровня.


Что сохраняется в файле cookie?

Этот сайт не хранит ничего, кроме автоматически сгенерированного идентификатора сеанса в файле cookie; никакая другая информация не фиксируется.

Как правило, в файле cookie может храниться только та информация, которую вы предоставляете, или выбор, который вы делаете при посещении веб-сайта. Например, сайт не может определить ваше имя электронной почты, если вы не решите ввести его. Разрешение веб-сайту создавать файлы cookie не дает этому или любому другому сайту доступ к остальной части вашего компьютера, и только сайт, создавший файл cookie, может его прочитать.

Потерянная литография: как США изобрели, а затем потеряли критически важный…

Литография

, пожалуй, самый важный этап в производстве полупроводников. Сегодняшние современные сканеры EUV — это невероятно сложные машины, которые стоят столько же, сколько новый реактивный лайнер Boeing.

Компания ASML, начав в 1984 году как совместное предприятие с Philips, превратилась во второго по величине в мире производителя чипового оборудования и единственного поставщика машин EUV.

«Потеря литографии», эпизод из серии подкастов The Chip Warriors, представляет собой рассказ из первых рук о том, как США изобрели, а затем потеряли эту важнейшую часть процесса производства микросхем.Эпизод основан на интервью с пионерами Fairchild Semiconductor, David W Mann Co, Cobilt, GCA, Nikon и Silicon Valley Group (SVG) и другими.

Первые попытки печатать изображения на кремниевых пластинах были предприняты в Bell Labs в середине 1950-х годов. Позже в том же десятилетии Fairchild усовершенствовал процесс, чтобы производить транзисторы.

«Мы решили использовать фоторезистент, чтобы очертить области», — сказал Джей Ласт, один из первых восьми соучредителей Fairchild вместе с Бобом Нойсом.

«Лаборатории Белла предприняли некоторые усилия и решили, что с этим просто невозможно работать, поэтому они никогда не занимались этим. Боб [Нойс] и я работали с Kodak, и они предоставили нам лучшие резисты, которые у них были в то время, и постепенно у нас с ними установились рабочие отношения, которые постоянно улучшались.

«Было много технических проблем и технических задержек, но мы просто сказали, что собираемся использовать это, и мы должны заставить его работать — и мы это сделали».

В 1960-х годах устройства для выравнивания контактных масок использовались для печати пластин, и компания Kulicke & Soffa первой представила их на рынке.Позже доминирующим поставщиком стала Kasper Instruments, но когда трое бывших инженеров Kasper создали свою собственную компанию под названием Cobilt, которая была приобретена бостонским гигантом САПР Computervision в 1972 году, возникла новая парадигма печати пластин.

«Компания Cobilt изготовила механические устройства для выравнивания, которые печатали полупроводниковую пластину с использованием несколько более совершенной технологии, чем стандарты того времени. А у Computervision был пакет автоматического выравнивания, который позволял более точно выравнивать слои», — сказал Сэм Харрелл, который перешел из Computervision на Западное побережье, чтобы стать вице-президентом Cobilt по проектированию.

«Мы продали сотни машин по всему миру. Это действительно царило до тех пор, пока период проекционных принтеров не стал доминирующим».

Эд Сигал, который до прихода в Cobilt продавал устройства для выравнивания в Kasper, видел, как Cobilt потеряла свое лидерство, когда компания Perkin-Elmer разработала устройство для выравнивания проекционной маски.

«Когда выравниватель маски перешел на следующую стадию от контактного выравнивателя маски к так называемому проекционному выравнивателю или проецированию изображения маски на пластину, компания Perkin-Elmer просто пришла и захватила этот рынок», — Сигал. сказал.«Cobilt попыталась построить его, и это действительно был очень большой провал. И в конце концов компания была продана Applied Materials в 1981 году».

Джим Галлахер руководил бизнесом по производству полупроводникового оборудования в компании GCA, которая была мировым лидером в области литографии до того, как в 1980-х годах уступила рынок японским компаниям. В подкасте он рассказывает о возможной гибели компании после того, как японские поставщики, такие как Nikon и Canon, стали лидерами рынка.

«Мы начали распродавать операции как могли.Но когда вы, так сказать, катитесь вниз по склону, это не время начинать продавать, потому что вы делаете так, что все знают о вашей проблеме и предлагают самые низкие цены. Так что это было началом нашего скольжения», — сказал Галлахер.

К концу 1980-х доминирование японских поставщиков шаговых двигателей стало проблемой для американских производителей микросхем. Пытаясь разработать альтернативный источник, Intel работала с европейской компанией Censor. Однако попытка не удалась, и в 1984 году Censor была продана Perkin-Elmer.

Соучредитель Intel Гордон Мур вспоминает о том, что было в то время. «Большие степперы выходили из Canon и Nikon. В США не было сопоставимого оборудования, и это было очень важной частью всего процесса.

«У нас была крупная программа с лихтенштейнской компанией [Censor] по созданию шагового двигателя. Очень сложные, но и очень дорогие, и разработка шла слишком медленно, чтобы они могли реально повлиять на рынок. В итоге мы купили японское оборудование, потому что оно было лучшим из доступных, а альтернативного источника для него просто не было.

Шоичиро Ёсида, который позже станет генеральным директором Nikon, разработал первую в компании камеру с последовательным повторением для производства полупроводников. В подкасте послушайте, как он описывает (на английском языке) раннюю разработку степперов в Nikon.

В 1990-х годах SVG расширился до литографии под руководством недавно назначенного генерального директора Папкена Дер Торосяна. SVG пыталась купить GCA, но сделка так и не состоялась, и в 1988 году GCA была продана General Signal.

Тем не менее, Дер Торосян успешно приобрел систему пошагового сканирования следующего поколения, Micrascan, разработанную Perkin-Elmer совместно с IBM, но, по его словам, для этого потребовались десятки миллионов долларов на НИОКР и два с половиной года. для исправления ошибок в системе.Результатом стал Micrascan II.

«Машина, которая у них была, не работала — среднее время наработки на отказ было меньше часа. IBM не могла его использовать. Но у него была очень хорошая базовая технология», — сказал он.

Der Torrossian объясняет, как нехватка наличных денег привела к упущенной возможности сохранить передовую литографию в США.

«В 92 году у ASML было кровотечение. Компания Philips владела ими и пришла ко мне, чтобы купить ASML за 60 миллионов долларов. У меня не было 60 миллионов долларов. Я сказал им: «Я дам вам равное количество акций, так что давайте создадим совместное предприятие».Они сказали: «Нет, Philips нужны деньги».

К 2001 году ASML перевернула бизнес и в итоге купила SVG — последнюю крупную литографическую компанию США — за 1,6 миллиарда долларов. Сделка была отложена на несколько месяцев из соображений национальной безопасности, но в конечном итоге была одобрена администрацией Джорджа Буша-младшего после того, как ASML согласилась продать подразделение SVG Tinsley Labs.

Серия подкастов The Chip Warriors, написанная и спродюсированная Крейгом Аддисоном, основана на устных интервью по истории SEMI, которые он брал в период с 2004 по 2008 год.Интервью использовались по лицензии SEMI, которая не связана с подкастом.

На этой картине, заказанной SEMI в 1980 году, изображены пионеры литографии. Слева направо: команда, создавшая устройство для выравнивания проекционной маски Perkin-Elmer (Эйб Оффнер, Джере Бакли, Дэвид Маркел и Гарольд Хемстрит), а справа — Берт Уиллер, главный изобретатель. фоторетранслятора David W. Mann Co.

 

Похожие сообщения о литографии

Поделитесь этой публикацией через:

Фторированные полимеры: жидкокристаллические свойства и применение в литографии

Принадлежности Расширять

принадлежность

  • 1 Материаловедение и инженерия, Корнельский университет, 310 Бард Холл, Итака, Нью-Йорк 14853, США.

Элемент в буфере обмена

Ситараман Кришнан и др. Рек. хим. 2004.

Показать детали Показать варианты

Показать варианты

Формат АннотацияPubMedPMID

принадлежность

  • 1 Материаловедение и инженерия, Корнельский университет, 310 Бард Холл, Итака, Нью-Йорк 14853, США.

Элемент в буфере обмена

Полнотекстовые ссылки Параметры отображения цитирования

Показать варианты

Формат АннотацияPubMedPMID

Абстрактный

Фторированные полимеры представляют собой интересный класс материалов с множеством уникальных свойств, включая самосборку, чрезвычайно низкую поверхностную энергию, низкое поглощение УФ-излучения с длиной волны 157 нм и растворимость в сверхкритическом диоксиде углерода.В результате многие фторированные полимеры находят применение в передовых технологиях. Мы рассматриваем некоторые из наших работ по синтезу и характеристике блок-сополимеров с фторированными боковыми цепями, уделяя особое внимание поверхностям, образованным с использованием этих полимеров. Обсуждается также использование фторированных полимеров в качестве фоторезистов для 157-нм литографии с возможностью обработки в экологически чистом сверхкритическом диоксиде углерода.

(c) 2004 г. Форум японских химических журналов и Wiley Periodicals, Inc.

Похожие статьи

  • Синтез и характеристика фторполимеров с низкой поверхностной энергией в качестве потенциальных барьерных покрытий для ухода за полостью рта.

    Черкли Д.П., Барбу Э., Юэн Р.Дж., Шен З., Ким Ю., МакХью М.А., Чжан З.И., Невелл Т.Г., Риз Г.Д., Цибуклис Дж. Черкли Д.П. и др. J Biomed Mater Res A. 15 марта 2008 г.; 84 (4): 994-1005. doi: 10.1002/jbm.a.31462. J Biomed Mater Res A.2008. PMID: 17647242

  • Направленная самосборка блок-сополимеров для нанолитографии: изготовление отдельных элементов и основных геометрий интегральных схем.

    Стойкович М.П., ​​Канг Х., Даулас К.Ч., Лю Г., Лю К.К., де Пабло Дж.Дж., Мюллер М., Нили П.Ф. Стойкович М.П. и др. АКС Нано. 2007 г., октябрь; 1 (3): 168–75. doi: 10.1021/nn700164p. АКС Нано. 2007.PMID: 19206647

  • Вкладывая шипение в химию: применение сверхкритического диоксида углерода в тканевой инженерии, доставке лекарств и синтезе новых блок-сополимеров.

    Тай Х., Попов В.К., Шакешев К.М., Хаудл С.М. Тай Х и др. Биохим Сок Транс. 2007 июнь; 35 (часть 3): 516-21. DOI: 10.1042/BST0350516. Биохим Сок Транс. 2007. PMID: 17511642

  • Фторированные жидкие кристаллы – свойства и применение.

    Херд М. Херд М. Chem Soc Rev. 2007 Dec;36(12):2070-95. дои: 10.1039/b610738a. Epub 2007, 14 сентября. Chem Soc Rev. 2007. PMID: 17982522 Рассмотрение.

  • Применение сверхкритического СО2 в производстве полимерных систем для доставки лекарств и тканевой инженерии.

    Дэвис О.Р., Льюис А.Л., Уитакер М.Дж., Тай Х., Шакешев К.М., Хаудл С.М.Дэвис О.Р. и соавт. Adv Drug Deliv Rev. 2008 Feb 14;60(3):373-87. doi: 10.1016/j.addr.2006.12.001. Epub 2007 5 октября. Adv Drug Deliv Rev. 2008. PMID: 18069079 Рассмотрение.

LinkOut — больше ресурсов

  • Полнотекстовые источники

  • Прочие литературные источники

  • Материалы исследований

Полнотекстовые ссылки [Икс] Уайли [Икс]

Укажите

Копировать

Формат: ААД АПА МДА НЛМ

SEMICON China – Симпозиум II: Литография и моделирование

Симпозиум II: Литография и рисование

Комитет по симпозиуму
Симпозиум II: литография и паттерн.

Противостояние Материал и переработка
• сопротивляются Основы
• сопротивляться стохастические эффекты
• Стоимость эффективный фоторезист для объемного производства
• Высокопроизводительный PhotoSesist
• сопротивляться контролю адгезии для продвинутых Процесс
• Усовершенствованная технология обработки

Оптическая и EUV Lithography
• CD и Overlay Control в процессе
• Immersion Lithogrography
• Управление дефектоспособностью
• Схемы защиты от отражения для расширенного процесса
• Усовершенствованные инструменты оптической экспозиции и источника света
• Эффекты топорографии маски

Вычислительная литография
  •  Экономичные методы RET
  •  Усовершенствованное моделирование оптических изображений
  •  Расширенный RET, как в EUV, приложение множественного формирования паттернов и поляризации
  •  Расширенная OPC и оптимизация маски источника
  •  Решения DFM и технология проектирования Совместная оптимизация для узлов 28 нм и выше
  •  Применение машинного обучения и искусственного интеллекта в вычислительной литографии

Emergent Technology
  •  Направленная самосборка
  •-  Прямая запись E -Beam
• NanoImprint
• Другие новые литографические методы и дополнительная литография

Метрология и осмотр

73
• Наложение, CD, дефект и топография Metrology
• Интегрированная метрология
• Усовершенствованный контроль процесса
• Вычислительная метрология и проверка
• LWR /LER характеристика

Технология маски
  •  Экономичная сетка для узла 28 нм и ниже
  •  Маска Проверка дефектов, ремонт и контроль CD
  •  Усовершенствованная заготовка маски и эффект ЭДС
  •  MPC для маски для узла 280 нм0 и выше3 .

Похожие записи

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован.